• traitement ciblé des impuretés cutanées
• réduit la taille des boutons en 24 heures
• enrichi en centella asiatica apaisante
• invisible et parfaitement portable sous le maquillage
• favorise un grain de peau plus uniforme

Erborian Korean Skin Therapy Centella SOS Patch est un produit de soin innovant, spécialement conçu pour une application ponctuelle en cas d'imperfections cutanées. Grâce à la combinaison de niacinamides et de PHA, un acide exfoliant doux, la taille et la visibilité des boutons sont visiblement réduites en 24 heures. Cette combinaison de substances actives contribue à lisser la surface de la peau et favorise un grain de peau uniforme. La formule est en outre enrichie en centella asiatica, réputée pour ses propriétés apaisantes. Ces ingrédients aident à minimiser les rougeurs et à réduire les sensations de tiraillement, ce qui contribue à une sensation de peau plus agréable. Le gel est conçu pour être intégré de façon harmonieuse dans les soins quotidiens de la peau. Grâce à sa texture ultra-fine et invisible, le gel peut être facilement porté sous le maquillage sans gêner l'application. Il forme un film protecteur agréable qui agit comme une seconde peau et apaise et protège la peau. Ce produit est idéal pour toutes celles qui recherchent une solution discrète et efficace pour traiter les imperfections cutanées tout en prenant soin de la peau et en l'apaisant. Son application agréable et ses résultats visibles font de ce produit un outil indispensable pour une peau soignée.

En l'espace de 24 heures, on observe une réduction visible des boutons. La surface de la peau est nettement plus lisse et plus uniforme. Globalement, le produit contribue à un grain de peau plus harmonieux et plus soigné.

Appliquez le gel directement sur les impuretés de la peau en effectuant de petits mouvements circulaires de manière à former un film fin. Les substances actives peuvent ainsi être absorbées de manière optimale par la peau. Pour des résultats optimaux, le gel peut être utilisé jusqu'à trois fois par jour.